+8613140018814

Klasifikácia a aplikácia procesu terčového naprašovania

Mar 20, 2024

Cieľové rozprašovanie, ako základná technológia povrchového inžinierstva a technológie tenkých vrstiev, sa týka použitia iónov alebo iných nabitých častíc na zasiahnutie cieľa vo vysokoenergetickom stave, čím sa spustí prenos kinetickej energie a transport materiálu cieľových atómov alebo molekúl. . Excitované atómy alebo molekuly sa odtrhnú od cieľového povrchu a uložia sa na substrát vysokorýchlostným pohybom, čím sa vytvorí tenký film s rovnomernou alebo špecifickou štruktúrou.
1. Klasifikácia
(1) DC naprašovanie
Princíp: Jednosmerné naprašovanie využíva ako zdroj energie konštantný zdroj jednosmerného prúdu a je vhodné hlavne pre ciele s dobrou vodivosťou, ako sú kovy.
Vlastnosti: Má výhody jednoduchého vybavenia, ľahkej obsluhy a vysokej rýchlosti nanášania. Toto sa nevzťahuje na izolačné materiály, pretože nedokážu zabezpečiť efektívny prenos náboja.
(2) Rádiofrekvenčné naprašovanie
Princíp: Rádiofrekvenčné naprašovanie využíva rádiofrekvenčný výkon (zvyčajne v rozsahu MHz), takže je možné naprašovať aj nevodivé materiály (ako je keramika, oxidy).
Vlastnosti: Schopný rozprašovať izolačné materiály s vyššou rovnomernosťou nanášania. Avšak kvôli zložitému napájaciemu a riadiacemu systému sú náklady a náročnosť údržby relatívne vysoké.
(3) Magnetrónové naprašovanie
Princíp: Na základe tradičného naprašovania sa magnetické pole vytvára umiestnením magnetov blízko cieľa, čím sa zvyšuje hustota a stabilita plazmy.
Vlastnosti: Zlepšená účinnosť naprašovania a kvalita filmu, znížená cieľová spotreba. Môže pracovať pri nižšom tlaku vzduchu, čím sa znižuje vplyv častíc plynu na fóliu.
(4) Reaktívne naprašovanie
Princíp: Počas procesu naprašovania sa do pracovnej atmosféry zavádzajú reaktívne plyny (ako je kyslík, dusík), aby chemicky reagovali s cieľovými atómami a vytvorili zložený film.
Vlastnosti: Je možné pripraviť rôzne zložené filmy, ako sú oxidy, nitridy, karbidy atď. Ovládanie je však komplikované a vyžaduje presné nastavenie prietoku a tlaku reaktívneho plynu.
(5) Vysokovýkonné pulzné magnetrónové naprašovanie
Princíp: Použite vysokovýkonný pulzný zdroj na generovanie vysokohustotnej plazmy na krátku dobu, aby sa zvýšila rýchlosť rozprašovania.
Vlastnosti: Je možné získať hladšie a hustejšie filmy. Ale kvôli vysokej spotrebe energie sa tepelný manažment a odolnosť zariadenia stávajú výzvou.

2.Aplikácia
(1) Polovodičový priemysel
Technológia naprašovania sa používa na nanášanie vodivých, izolačných a tieniacich vrstiev, ktoré sú rozhodujúce pre výrobu vysokovýkonných integrovaných obvodov a mikroelektronických zariadení.
(2) Optické aplikácie
Zrkadlá a antireflexné povlaky: Tenké filmy pripravené technikou naprašovania možno použiť na výrobu rôznych optických komponentov, ako sú šošovky, šošovky a zrkadlá v laserových systémoch. Vrstva absorbujúca svetlo a vodivá vrstva v solárnych článkoch sa tiež často pripravujú naprašovaním.
(3) Dekoratívny náter
Automobilový priemysel a stavebný priemysel: Naprašované fólie sa používajú na dekoratívne nátery automobilových dielov a stavebných materiálov, poskytujú nielen estetický vzhľad, ale aj zvyšujú odolnosť materiálu voči opotrebovaniu a korózii. Kryty a dekoratívne časti spotrebnej elektroniky, ako sú mobilné telefóny a počítače, tiež často používajú technológiu naprašovania na nanášanie krásnych filmov odolných voči opotrebovaniu.
(4) Špeciálne funkčné fólie
Môže nanášať filmy s vysokou tvrdosťou a opotrebením na povrchy nástrojov a foriem, aby sa predĺžila životnosť nástroja. Okrem toho sa naprašované fólie môžu použiť na úpravu priepustnosti svetla v technológii inteligentných okien pre budovy a automobily.
(5) Biomedicínska oblasť
Biokompatibilné filmy sa vo všeobecnosti nanášajú technikami naprašovania, aby sa zvýšila kompatibilita umelých kĺbov alebo zubných implantátov s ľudským telom.
FANMETAL môže zákazníkom poskytnúť rôzne kovové naprašovacie terče, ako sú titánovo hliníkové naprašovacie terče, volfrámové terče a chrómové kovové terče atď.

Chromium Planar Sputtering Target

Chromium Rotary Sputter Targets

Zirconium Zr Sputtering Targets

Zaslať požiadavku