Ciele sputteringu oxidu hlinitého
Ciele sputteringu oxidu hlinitého
S vývojom transparentných vodivých fólií boli široko používané ciele AZO (Al2O3-ZnO), ktoré môžu nahradiť ITO. Priehľadný vodivý film AZO má medzeru pásma 3,4eV a vnútorný absorpčný limit 360 nm, ktorý možno použiť ako materiál okennej vrstvy pre tenkovrstvové batérie. Jeho funkcia medzery v širokom pásme môže znížiť absorpciu svetla p, dopovanými oblasťami typu n a zlepšiť mieru využitia svetelnej energie. Priehľadný vodivý film AZO má zároveň nízku odolnosť a vysokú priepustnosť viditeľného svetla, čo z neho robí dobrý materiál prednej priehľadnej vrstvy. AZO má zároveň vlastnosti vysokej plazmatickej stability, jednoduchej technológie prípravy a netoxických a neškodných surovín, vďaka čomu sa AZO stáva široko používaným v oblasti tenkovrstvových solárnych článkov.
Hliník oxid zinočnatý Sputtering ciele Obrázok:
Naša spoločnosť môže zákazníkom poskytnúť vysoko čisté, vysoko kvalitné a jednotne organizované ciele AZO, ako aj záväzné služby cieľov AZO a backplanes.
Typ | Názov produktu | Vzorec | Čistota | Bod topenia | Hustota (g/cc) | Dostupné tvary |
Oxidy | Oxid hlinitý | Al2O3 | 4N | 2045 | 4 | Cieľ, Častica |
Oxid bizmut(III) | Bi2O3 | 4N | 820 | 8.9 | Cieľ, Častica | |
Oxid chrómu(III) | Cr2O3 | 4N | 2435 | 5.2 | Cieľ, Častica | |
Oxid erbium | Er2O3 | 4N | 2378 | 8.64 | Cieľ, Častica | |
Oxid hafnium | HfO2 | 4N | 2812 | 9.7 | Cieľ, Častica | |
Oxid cínu Indium | ITO | 4N | 1565 | 7.6 | Cieľ | |
Horečnatého | MgO | 4N | 2800 | 3.58 | Cieľ, Častica | |
Oxid nióbny | Nb2O5 | 4N | 1530 | 4.47 | Cieľ, Častica | |
Oxid neodym(III) | Nd2O3 | 4N | 2272 | 7.2 | Cieľ, Častica | |
Oxid nikel | Nio | 4N | 1990 | 7.45 | Cieľ, Častica | |
Oxid scandium | Sc2O3 | 4N | 2480 | 3.86 | Cieľ, Častica | |
Oxid kremičitý | SiO | 4N | 1702 | 2.13 | Cieľ, Častica | |
Oxid kremičitý | SiO2 | 4N | 1610 | 2.2 | Cieľ, Častica, Kryštál | |
Oxid samárium(III) | Sm2O3 | 4N | 2350 | 7.4 | Cieľ, Častica | |
Oxid uhoľnatý tantalum | Ta2O5 | 4N | 1800 | 8.7 | Cieľ, Častica | |
Oxid titaničitý | TiO2 | 4N | 1800 | 4.29 | Cieľ, Častica | |
Oxid titaničitý (V) | Ti3O5 | 4N | 1750 | 4.57 | Cieľ, Častica | |
Oxid vanád(V) | V2O5 | 4N | 690 | 3.36 | Cieľ, Častica | |
Oxid ytria(III) | Y2O3 | 4N | 2680 | 4.8 | Cieľ, Častica | |
Zinočnatého | ZnO | 4N | 1975 | 5.6 | Cieľ, Častica | |
Oxid zinočnatý dopovaný hliníkom | AZO | 4N | \ | 5.4 | Cieľ | |
Oxid zirkónium | ZrO2 | 4N | 2700 | 5.5 | Cieľ, Častica | |
Fluorid | Fluorid bárnatý | BaF2 | 4N | 1280 | 4.8 | Cieľ, Častica |
Fluorid vápenatý | CaF2 | 4N | 1360 | 3.13 | Cieľ, Častica | |
Fluorid cerium | CeF3 | 4N | 1418 | 6.16 | Cieľ, Častica | |
Fluorid draselný | KF | 4N | 880 | 2.48 | Cieľ, Častica | |
Fluorid lantán(III) | LaF3 | 4N | 1490 | 6 | Cieľ, Častica | |
Fluorid horečnatý | MgF2 | 4N | 1266 | 4.2 | Cieľ, Častica | |
Fluorid sodný | Naf | 4N | 988 | 2.79 | Cieľ, Častica | |
Ostatné | Titanát bárnatý | BaTio3 | 4N | 1620 | 3.96 | Cieľ, Častica |
Titanát stroncium | SrTiO3 | 4N | 2080 | 5.12 | Cieľ, Častica | |
Sulfid zinočnatý | ZnS | 4N | 1830 | 4.1 | Cieľ, Častica | |
Nitrid kremíka | Si3N4 | 4N | sublimácia | 3.44 | Cieľ, Častica | |
Nitrid titánu | Cín | 4N | 2950 | 5.43 | Cieľ, Častica | |
Nitrid hlinitý | AlN | 4N | sublimácia | 3.26 | Cieľ, Častica | |
Nitrid bóru | BN | 4N | 3000 | 2.25 | Cieľ, Častica | |
Karbid slilice | Sic | 4N | 2700 | 3.22 | Cieľ |
Populárne Tagy: Ciele na sputtering oxidu hlinitého zinočnatého, dodávatelia, výrobcovia, továreň, prispôsobené, veľkoobchodné, cena, cenová ponuka, na predaj
Zaslať požiadavku
