Titánový cieľ sputteringu

Fanmetal dodáva Pure 99.999% Titanium Sputtering Target. Čistota z 99,5% na 99,9999%. V súčasnosti je pre 4-megabitový VLSI potrebná čistota titánu na dosiahnutie úrovne 4N5 (99,995%) ~ 5N (99,999%), zatiaľ čo 16-megabitová VLSI tretej generácie vyžaduje, aby čistota titánu dosiahla úroveň 6N (99,9999%).

Taktiež poskytujeme kovový cieľ a odparovací materiál s vysokou čistotou 99,9999%, cieľ drahých kovov (Au , Ag, Pt), cieľovú lepiacu službu, téglikové vložky ( meď , molybdén, volfrám atď .)

Cieľový obrázok titánového sputteringu:

Hlavné aplikácie Titanium Sputtering Target zahŕňajú:

1. Biologické materiály

Titán je nemagnetický kov a nebude magnetizovaný v silnom magnetickom poli. Má dobrú kompatibilitu s ľudským telom a nemá žiadne toxické vedľajšie účinky. Môže sa použiť na výrobu ľudských implantačných zariadení. Všeobecne platí, že lekárske titánové materiály nedosahujú úroveň titánu vysokej čistoty, ale vzhľadom na rozpustenie nečistôt v titáne by čistota titánu pre implantáty mala byť čo najvyššia. V literatúre sa tiež uvádza, že titánový drôt s vysokou čistotou môže byť použitý ako biologický páskovací materiál. Okrem toho ihla na vstrekovanie titánu so zabudovaným katétrom tiež dosiahla vysokú čistotu titánu.

2. Dekoračné materiály

Titán s vysokou čistotou má vynikajúcu odolnosť proti korózii v atmosfére a po dlhodobom používaní v atmosfére nezmení farbu, čím sa zabezpečí pôvodná farba titánu. Preto môže byť titán vysokej čistoty použitý aj ako stavebné dekoračné materiály. Okrem toho, v posledných rokoch, niektoré high-end dekorácie a niektoré nosiace predmety, ako sú náramky, hodinky a okuliare rámy, sú vyrobené z titánu, ktorý využíva vlastnosti odolnosti proti korózii, sfarbenia, dlhodobej údržby dobrého lesku a necitlivosti v kontakte s ľudskou pokožkou. Čistota titánu použitého v niektorých dekoráciách dosiahla úroveň 5N.

3. Nasávaný materiál

Titán, ako veľmi aktívny kov s chemickými vlastnosťami, môže reagovať s mnohými prvkami a zlúčeninami pri vysokých teplotách. Titán vysokej čistoty má silnú adsorpciu aktívnych plynov (ako sú O2, N2, CO, CO, CO2 a vodná para nad 650 °C). Ti film odparený na stene čerpadla môže tvoriť povrch s vysokou adsorpčnou kapacitou. Vďaka tejto vlastnosti je Ti široko používaný ako getter v ultra vysokých vákuových čerpacích systémoch. Ak sa používa v sublimačných čerpadlách, sputteringových iónových čerpadlách atď., konečný pracovný tlak sputteringového iónového čerpadla môže byť až 10-9Pa.

4. Elektronické informačné materiály

V posledných rokoch sa s rýchlym rozvojom high-tech oblastí, ako sú polovodičové technológie a informačné technológie, zvýšilo množstvo titánu vysokej čistoty používaného pri cieľoch sputteringu (pozri obrázok 1), integrovaných obvodoch, DRAM a plochých panelových displejoch. Požiadavky na čistotu materiálov sú stále vyššie a vyššie. V polovodičovom priemysle VLSI sa zlúčeniny titánového kremíka, zlúčeniny titánového dusíka, zlúčeniny volfrámového titánu atď. používajú ako difúzne bariéry a elektroinštalačné materiály pre kontrolné elektródy. Metóda rozstrekovania sa používa na výrobu týchto materiálov a titánový cieľ použitý v metóde rozstrekovania vyžaduje vysokú čistotu, najmä pre alkalické kovové prvky a rádioaktívne prvky.

V posledných rokoch, jeho zodpovedajúce sputtering zariadenia tiež začal používať vysoko čistý titán s rovnakou čistotou ako sputtering titán cieľ.

Populárne Tagy: Titánový sputtering cieľ, dodávatelia, výrobcovia, továreň, prispôsobené, veľkoobchodné, cena, cenová ponuka, na predaj